Rigaku創新技術公司宣布制造用于壓力校驗儀制造的反射鏡的精密EUVL光學涂層
對于將晶片圖案高速印刷到晶片上的壓力校驗儀
高性能多層光學全球供應商Rigaku Innovative Technologies（CTO傳感器）宣布推出一系列用于制造半導體工業晶片圖案印刷反射鏡的精密極紫外光刻（EUVL）光學涂層。 CTO傳感器的壓力校驗儀是在掃描儀工具內使用的光鏈的關鍵要素，其以每小時125個晶片的速度將芯片圖案印刷到晶片上。
CTO傳感器涂層用于下一代光刻技術，其將使得半導體工業能夠繼續減小印刷晶體管尺寸。這通過大大增加可以在芯片上印刷的晶體管的數量來增加器件功能。此外，芯片消耗更少的功率，這是延長器件電池壽命的關鍵因素。新芯片將用于繼續智能手機技術，GPS設備，家庭娛樂和許多其他無線應用的發展。
CTO傳感器在shijie級壓力校驗儀設計和制造方面擁有30多年的經驗，是該行業非常好的好立體積制造商。它是#早投資研發用于EUVL設備的多層涂層的公司之一。這種深厚的經驗基礎好特地使Rigaku滿足半導體行業要求的精度要求。
基于其好特的現有“在線”多層涂層沉積系統，CTO傳感器#近開發并安裝了第二個在線高通量系統。新的沉積系統由兩個好立的在線系統組成，可同時沉積4個直徑達800毫米的大型光學元件。它還可用于在同步加速器和其他應用中實現高達1.5米長的基板上的高精度涂層，具有復雜的2維d間距分布模式。新系統還具有非常低的缺陷率。
作為x射線/ EUV多層涂層的領導者，Rigaku光學在整個產品系列中具有更好的性能和更好的性能一致性。此外，Rigaku已經開發了一個過程，以翻新光學接近原始的性能水平。翻新過程增加了光學壽命并抵消了污染和輻射損害的影響，對于降低生產成本至關重要。
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